北京大学申请GaN与碳纳米管CMOS电路专利,可以作为GaN功率器件的外围电路,实现单片集成
金融界2023年12月15日消息,据国家知识产权局公告,北京大学申请一项名为“一种基于GaN与碳纳米管的CMOS逻辑电路及其制备方法“,公开号CN117238958A,申请日期为2022年6月。
专利摘要显示,本发明公开了一种基于GaN与碳纳米管的CMOS逻辑电路及其制备方法。所述CMOS逻辑电路由制备在同一个芯片上的GaN n型晶体管和碳纳米管p型晶体管组成,在衬底上依次层叠缓冲层、电子导电沟道层和势垒层,GaN n型晶体管的源极、漏极和栅极结构位于势垒层上,栅极位于栅极结构上,GaN n型晶体管上覆盖钝化层;碳纳米管p型晶体管包括碳纳米管沟道及其两端的漏极和源极,在碳纳米管沟道上依次为其栅介质层和栅极;碳纳米管p型晶体管位于GaN n型晶体管侧面或者上方的钝化层上。本发明的CMOS逻辑电路饱和电流密度大,工作速度高,可以作为GaN功率器件的外围电路,实现单片集成,有效解决目前Si电路带来的片间寄生电感问题,从而充分发挥出GaN功率器件的性能优势。
本文源自:金融界
作者:情报员
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