新火种
2024-01-02 
三星申请深度学习光刻模型专利，能生成反映掩模偏差变化的可靠光刻模型
金融界2023年12月27日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“基于深度学习的光刻模型生成方法以及掩模制造方法”，公开号CN117289543A，申请日期为2023年5月。
专利摘要显示，提供了一种反映掩模偏差变化的可靠的光刻模型生成方法和包括该光刻模型生成方法的掩模制造方法。该光刻模型生成方法包括准备用于学习的基本图像数据，准备指示掩模偏差变化的变换图像数据，通过组合基本图像数据和变换图像数据执行深度学习来生成光刻模型，以及验证光刻模型。
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